決戰5奈米先進製程，IBM攜手三星電子

決戰5奈米先進製程，IBM攜手三星電子、格羅方德搶頭香

財訊快報/蔣宛如 報導

韓聯社報導，美國科技巨擘IBM在先進製程上有重大突破，IBM週一宣佈，已與三星電子、格羅方德(GlobalFoundries)共同開發出新nanosheet技術，可將電晶體進一步微縮至5奈米，將用以生產全球第一顆5奈米晶片。IBM於2015年7月推出業界第一顆7奈米晶片，當時三星、格羅方德也是合作夥伴。IBM說與市面上最頂尖的10奈米晶片相比，5奈米效能可提高四成，若以同樣輸出效能做比較，5奈米耗電量少75%。IBM半導體設備主管Huming Bu表示，為了開發5奈米製程，研究團隊必須藉助極端紫外光(EUV)微影技術，這是EUV機台首度應用在前端製程(Front end of line)上。EUV波長(13.5奈米)遠比浸潤式微影(193奈米)小，可簡化曝光程式。三星電子於5月24日在年度晶圓代工論壇上宣佈，要在5奈米、4奈米等先進製程取得領先，明年則將率先在7奈米應用EUV科技。